Новую установку для производства микросхем создали в России

Первую отечественную установку для плазмохимического осаждения на кремниевых пластинах диаметром 300 миллиметров разработали российские инженеры. Опытный образец создали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения, пишет газета «Известия».

Плазмохимическое осаждение – один из ключевых процессов при производстве микросхем. Ранее такие установки закупали исключительно за рубежом, но теперь у России появилась возможность производить их самостоятельно. Это важный шаг в укреплении технологического суверенитета страны.

Отечественное изобретение, по словам разработчиков, соответствует всем международным стандартам. Это означает, что в будущем российские производители также могут стать альтернативными поставщиками этого оборудования в страны, которые заинтересованы в развитии микроэлектроники.