0

Новую установку для производства микросхем создали в России

Первую отечественную установку для плазмохимического осаждения на кремниевых пластинах диаметром 300 миллиметров разработали российские инженеры. Опытный образец создали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения, пишет газета «Известия».

Нет комментариев

Авторизуйтесь через социальную сеть для добавления комментария.

Рейтинг@Mail.ru
Идет загрузка...